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GL150/300CLIV紫外纳米压印光刻设备主要功能
●全自动150/300mm大面积、高精度、高深宽比纳米压印生产线
●CLIV技术，确保压印结构精度与结构填充完整性
●Cassettetocassette自动上下片，光学巡边预对位
●设备内自动复制柔性复合工作模具，同时支持自动更换工作模具，适合连续生产
●自动对位、自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程在密闭洁净环境中自动进行，以保证压印质量
●标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强>1000mW/cm2），水冷冷却，特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，支持各种商用纳米压印材料
●产能可大于40片每小时，适合DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的量产
●随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构等工艺流程，帮助客户零门槛达到国际的纳米压印水平
GL150/300CLIV紫外纳米压印光刻设备相关参数
兼容基底尺寸 GL150CLIV：2inch、3inch、100mm、150mm
GL300CLIV：200mm、300mm
特殊尺寸可定制
支持基底材料 硅片、玻璃、石英、塑料、金属等
上下片方式 Cassettetocassette全自动上下片
晶圆预对位 光学巡边预对位
纳米压印技术 CLIV技术，适合高精度、高深宽比纳米结构压印
压印精度 优于10纳米*
结构深宽比 优于10比1*
残余层控制 可小于10nm*
紫外固化光源 紫外LED（365nm）面光源，光强>1000mW/cm2，水冷冷却（2000mW/cm2类型光源可选配）
设备内部环境控制 标配，外部环境Class100，内部环境可达Class10*
https://www.chem17.com/st472071/product_38112460.html
http://www.qdgermanlitho.com/Products-38112460.html
AR衍射光波导加工工艺