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PECVD管式炉
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产品: 浏览次数:4PECVD管式炉 
品牌: PECVD管式炉
单价: 面议
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发货期限: 自买家付款之日起 3 天内发货
有效期至: 长期有效
最后更新: 2024-03-28 13:37
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详细信息
OTF-1200X-50-PE-S是一款小型的PE-CVD(等离子体气相沉积)管式炉系统。此套设备带有500W的等离子射频电源,一个炉管直径为50mm的开启式管式炉(带有真空法兰和连接管道)和一个直联式双旋机械泵。因此这套设备模型可以更新为不同的PECVD系统。对于有限的经费的情况下来进行材料探索,此套系统极为理想。  
特征:  
1、与普通CVD相比可以在低温环境下进行气相沉积实验  
2、对于薄膜的应力可以通过射频电源的频率来进行控制  
3、通过工艺调节来控制化学计量  
4、能够广泛地用于各种材料沉积,如SiOx,SiNx,SiOxNy和无定型硅(a-Si:H)等.  
技术参数  
开启式管式炉  
输入电源:208–240VAC,1.2kW  
zui高工作温度1200℃(小于1小时)  
连续使用温度1100℃  
采用高纯氧化铝作为炉膛材料,并且表面涂有美国进口高温氧化铝涂层,可延长仪器使用寿命和提高加热效率  
高纯石英炉管,尺寸为50mmODx44mmIDx780mmL  
可设置30段升降温程序,并带有过热和断偶保护  
加热区长度为200mm,恒温区长度为60mm(+/-1°C)  
https://www.chem17.com/st152911/erlist_2494104.html 
http://www.kjmti.com.cn/Products-19695864.html 

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